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真空等離子清洗機(jī)與大氣等離子清洗機(jī)區(qū)別對(duì)比


 大氣等離子清洗機(jī)和真空等離子清洗機(jī)主要區(qū)別在于產(chǎn)生等離子體及維持條件的關(guān)鍵在于是否存在真空系統(tǒng)。從當(dāng)前的實(shí)際情況看,大氣等離子體的實(shí)現(xiàn)條件簡(jiǎn)單,設(shè)備制造及維護(hù)成本都比真空等離子體低,且離子源具有可移動(dòng)性;無(wú)需真空系統(tǒng)意味著等離子體材料加工便捷,被加工材料的尺寸不受真空腔室的限制,整個(gè)工藝流程實(shí)現(xiàn)了自動(dòng)化連續(xù)性生產(chǎn),大大節(jié)約了時(shí)間成本,進(jìn)一步降低了等離子體材料的加工成本。

大氣等離子清洗機(jī)與真空等離子清洗機(jī)的主要區(qū)別見(jiàn)表一


設(shè)備類(lèi)型 真空等離子清洗機(jī) 大氣等離子清洗機(jī)
外觀 等離子體在真空腔體內(nèi)產(chǎn)生,需要使用真空泵維持特定真空度 等離子體產(chǎn)生后噴出,直徑與筆相當(dāng);可排成陣列或以馬達(dá)帶動(dòng)旋轉(zhuǎn)
生產(chǎn)方式 批次式,亦可做成連續(xù)式 但成本大幅提高 連續(xù)式,通常與滑臺(tái)或機(jī)械手臂搭配使用
使用氣體 任何氣體都可以 N2、O2、air 為主,可混入其他氣體,但需 注意廢氣處理問(wèn)題
氣體用量 <1L/min 約 10-30L/min
等離子體有效范圍 等離子體由電極產(chǎn)生,充滿(mǎn)整個(gè)腔體 等離子體在電極間產(chǎn)生后被氣流帶出,有效范圍 2~80mm
靜電問(wèn)題 沒(méi)有靜電損傷問(wèn)題 噴嘴經(jīng)特殊設(shè)計(jì)后沒(méi)有靜電擊傷問(wèn)題
適合材料 無(wú)限制 無(wú)限制
工件尺寸 中小尺寸, 尺寸愈大,真空腔體就愈 大,設(shè)備造價(jià)將大幅提高 無(wú)限制
時(shí)效性 與常壓相比時(shí)效性較長(zhǎng) 較真空時(shí)效短
真空等離子清洗機(jī)與大氣等離子清洗機(jī)對(duì)比(表一)

除了表一所列差異外,真空等離子清洗機(jī)由于密閉腔體容易控制氣氛,可以得到較純的等離子體。且因?yàn)閴毫Φ停入x子體可以擴(kuò)散的距離較遠(yuǎn),等離子體因碰撞所損失的能量也較小,因此真空等離子清洗機(jī)有較好的處理效率;由于壓力夠低,sputter效應(yīng)也有助于提高清潔速度,甚至可以去除無(wú)機(jī)污染物。密閉的環(huán)境及所需氣體用量少,因此可以使用特殊氣體、增加制程彈性及更廣的應(yīng)用范圍。因此對(duì)于產(chǎn)品品質(zhì)要求較高、需要使用特殊氣體、產(chǎn)品單價(jià)較高、產(chǎn)品形狀較復(fù)雜(3D)、或產(chǎn)量較小的工件,建議采用真空等離子清洗機(jī)。

大氣等離子清洗機(jī)相較于真空等離子清洗機(jī):(1)等離子體范圍較集中于電極,(2)加上大氣壓下因?yàn)榕鲎草^頻繁,有相當(dāng)大比例的等離子體能量轉(zhuǎn)換成熱,需要使用較大量的氣體冷卻電極,并提高通過(guò)電極的等離子體流速,將等離子體中活性物質(zhì)快速帶到被處理物表面,因此大氣等離子體一般都使用較便宜的氣體如乾淨(jìng)空氣(CDA)或氮?dú)?N2)。由于大氣等離子清洗機(jī)沒(méi)有真空腔體的限制且等離子噴頭占地面積小,容易與自動(dòng)化產(chǎn)線(xiàn)結(jié)合成In-line方式,大量處理工件,省下可觀的人力費(fèi)用,更能節(jié)省因?yàn)榘徇\(yùn)工作衍生破片造成的良率問(wèn)題。對(duì)于產(chǎn)量大、需要in-line處理、平面型工件及面積較大的工件建議采用大氣等離子清洗機(jī)。

除了以上區(qū)別,真空等離子清洗機(jī)由于可以通入更多反應(yīng)氣體,工藝參數(shù)可控范圍大,所以真空等離子清洗機(jī)應(yīng)用范圍較大氣等離子清洗機(jī)更廣。

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